感光性フィルム「フォテック」フォテック 厚膜レジスト形成用HMシリーズ

厚膜レジスト形成用HMシリーズのイメージ画像

高アスペクト比の厚膜レジストが形成可能な感光性フィルムです。
メタルマスク製造などの電鋳用に使用できます。

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特長

  • 解像度・密着性に優れ、高アスペクト比のレジストが形成可能。
  • 用途に応じた膜厚ラインアップを展開しています(膜厚35~200 µm,要相談)。
  • レジストのサイドウォール形状が優れるため、良好なめっきライン形状が形成可能。

(測定の一例)

項目 単位 HM-4000シリーズ
(コンタクト露光機対応品)
HM-4056 HM-4075 HM-40112
レジスト膜厚 µm 56 75 112
露光量 mJ/cm2 85 130 270
超高圧水銀ランプ*1
密着性(L/S=x/400) µm 22 35 32
解像度(L/S=x/x) µm 25 35 50
*1:
平行光露光機

レジスト形成例


HM-4056
レジスト膜厚:56 µm
Φ=30 µm


HM-40112
レジスト膜厚:112 µm
L/S=180 µm/30 µm


HM-40112
レジスト膜厚:112 µm
レジスト直径:Φ=30 µm (スペース:40 µm)